![]() 一种蚀刻装置
专利摘要:
本申请公开了一种蚀刻装置,包括承载机构以及喷淋机构,承载机构用于承载待蚀刻的待加工物料,并使得待加工物料的待蚀刻表面与竖直方向具有预设角度,喷淋机构用于对应待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体,以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面流动。该设计其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。 公开号:CN214336696U 申请号:CN202120248488.5U 申请日:2021-01-28 公开日:2021-10-01 发明作者:王亚伟;许建勇 申请人:Jiangxi Huiguang Microelectronics Co ltd; IPC主号:H01L21-687
专利说明:
[n0001] 本申请涉及半导体生产技术领域,尤其涉及一种蚀刻装置。 [n0002] 待加工物料的蚀刻加工工艺中最难的就是对蚀刻药水的控制能力,且对蚀刻药水的控制能力的好坏会直接影响待加工物料的生产良率,例如蚀刻药水在待加工物料上的停留时间过长,会造成过度蚀刻。因此,如何控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率已成为亟待解决的问题。 [n0003] 本申请实施例提供一种蚀刻装置,其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。 [n0004] 第一方面,本申请实施例提供了一种蚀刻装置;该蚀刻装置包括承载机构以及喷淋机构,承载机构用于承载待蚀刻的待加工物料,并使得待加工物料的待蚀刻表面与水平方向具有预设角度,喷淋机构用于对应待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体,以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面流动。 [n0005] 基于本申请实施例的一种蚀刻装置,待蚀刻的待加工物料放置于承载机构上以后,待加工物料的待蚀刻表面与水平方向之间呈夹角设置,也即呈预设角度设置,当喷淋机构朝向待加工物料的对应的待蚀刻表面喷淋蚀刻液体时,因为预设角度的存在,使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体可由自身重力的影响沿待蚀刻表面流动,有效的避免了蚀刻液体在待加工物料的待蚀刻表面上的沉积,降低了蚀刻液体的控制难度,从而可达到提升产品良率的效果。 [n0006] 在其中一些实施例中,预设角度为α,且α的取值范围满足条件式:85度≤α≤95度。 [n0007] 基于上述实施例,将预设角度控制在85度≤α≤95度的范围内,待蚀刻表面110与竖直方向的角度则在基于竖直方向的正负5度的范围内,一方面能够使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体在重力作用下更容易沿待蚀刻表面流动,从而进一步降低蚀刻液体的控制难度,另一方面在结构上更便于承载机构对待加工物料的支撑与固定。 [n0008] 在其中一些实施例中,承载机构以及喷淋机构中的一个可相对于另一个产生运动,以朝向待蚀刻表面喷淋蚀刻液体。 [n0009] 基于上述实施例,承载机构以及喷淋机构中的一个可运动,一方面使得蚀刻液能够尽可能多的覆盖待加工物料的待蚀刻表面,以达到良好的蚀刻效果,另一方面对于大批量的待蚀刻待加工物料而言,边蚀刻边运动,还能够达到提升待加工物料的生产效率的效果。 [n0010] 在其中一些实施例中,承载机构包括传送带、传动元件以及驱动元件,驱动元件与传动元件连接,驱动元件配置成可驱动传动元件牵引传送带运动,从而使得待加工物料跟随传送带沿传输方向运动。 [n0011] 基于上述实施例,驱动元件驱动传动元件运动,传动元件牵引与之连接的传送带运动,使得放置在传送带上的待加工物料随传送带一起运动,从而实现了待加工物料与喷淋机构之间的相对运动,提升待加工物料的蚀刻效果的同时还提升了待加工物料的生产效率。 [n0012] 在其中一些实施例中,承载机构还包括邻近传送带设置,且用于限制待加工物料在传输过程中相对于传送带产生偏移的缓冲紧固件。 [n0013] 基于上述实施例,通过缓冲紧固件的设置,缓冲紧固件可用于固定放置在传送带上的待加工物料,以避免待加工物料在传送的过程中相对于传送带发生位置的偏移,增强待加工物料在传送过程中的稳定性,从而进一步降低了待加工物料的蚀刻难度。 [n0014] 在其中一些实施例中,缓冲紧固件包括多个缓冲块,多个缓冲块两两为一组可形成多个固定组,待加工物料可夹设于同一固定组中的两缓冲块之间,多个固定组设置于承载机构的进料端以及出料端。 [n0015] 基于上述实施例,同一固定组中的两个缓冲块从待加工物料的两侧进行夹持,且多个固定组设置在承载机构的进料端以及出料端,多个固定组从待加工物料的两端进行固定,进一步增强了待加工物料放置在传送带上的稳定性。 [n0016] 在其中一些实施例中,喷淋机构包括喷淋管以及喷淋架,喷淋管用于输送蚀刻液体,喷淋架用于支撑喷淋管且设置于承载机构的至少一侧。 [n0017] 基于上述实施例,喷淋架用于支撑喷淋管,喷淋管用于输送蚀刻液体,喷淋架设置于承载机构的至少一侧以从待加工物料的的至少一侧蚀刻待蚀刻表面。 [n0018] 在其中一些实施例中,喷淋管包括第一喷淋管以及第二喷淋管中的至少一种;第一喷淋管包括第一主管、与第一主管垂直连通的第一支管、以及设置于第一支管的背离第一主管一端的第一喷头;第二喷淋管包括第二主管、与第二主管垂直连通的第二支管、以及设置于第二支管的背离第二主管一端的第二喷头;其中,在沿第一支管或第二支管的长度方向上,第一支管的长度尺寸大于第二支管的长度尺寸。 [n0019] 基于上述实施例,蚀刻液体在第一喷淋管内依次流经第一主管、第一支管并从第一喷头喷出射至待加工物料的待蚀刻表面以对待加工物料进行蚀刻操作,同理蚀刻液体在第二喷淋管内依次经过第二主管、第二支管并从第二喷头喷出射至待加工物料的待蚀刻表面以对待加工物料进行蚀刻操作。 [n0020] 在其中一些实施例中,第一喷淋管的数量为多个,第二喷淋管的数量亦多个,且在沿竖直方向上,多个第一喷淋管与多个第二喷淋管呈交替间隔设置,且当多个第一喷淋管以及多个第二喷淋管装设于喷淋架后,第一喷头的喷嘴与第二喷头的喷嘴位于同一平面内。 [n0021] 基于上述实施例,多个第一喷淋管以及多个第二喷淋管在沿竖直方向呈交错间隔设置,且第一喷头的喷嘴与第二喷头的喷嘴位于同一平面内,使得多个第一喷淋管与喷淋架之间的支撑点同多个第二喷淋管与喷淋架之间的支撑点错开,从而使得喷淋架的受力均匀,对喷淋架起到良好的保护作用,延长了喷淋架的使用寿命。 [n0022] 在其中一些实施例中,第一支管的数量为多个,第一喷头的数量亦为多个,且一个第一喷头对应设置于一个第一支管;第二支管的数量为多个,第二喷头的数量亦为多个,且一个第二喷头对应设置于一个第二支管;其中,在沿第一主管或第二主管的长度方向上,多个第一支管与多个第二支管呈交替间隔设置。 [n0023] 基于上述实施例,通过将第一支管与第二支管的间隔排布,一方面使得蚀刻液体能够进一步尽可能多的覆盖待加工物料的待蚀刻表面,从而达到进一步优化待加工物料的蚀刻效果的目的,另一方面也更利于对蚀刻液体的控制以降低蚀刻液体的控制难度。 [n0024] 基于本申请实施例的一种蚀刻装置,待蚀刻的待加工物料放置于承载机构上以后,待加工物料的待蚀刻表面与水平方向之间呈夹角设置,也即呈预设角度设置,当喷淋机构朝向待加工物料的对应的待蚀刻表面喷淋蚀刻液体时,因为预设角度的存在,使得粘附于待蚀刻表面上的蚀刻液体可由自身重力的影响沿待蚀刻表面流动,有效的避免了蚀刻液体在待加工物料的待蚀刻表面上的沉积,降低了蚀刻液体的控制难度,从而可达到提升产品良率的效果。 [n0025] 为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。 [n0026] 图1为相关技术中的喷淋装置蚀刻待加工物料的俯视图; [n0027] 图2为相关技术中蚀刻药水喷淋在待加工物料的第一表面且切向药水束沉积在第一表面上的结构示意图; [n0028] 图3为相关技术中蚀刻药水喷淋在待加工物料的第二表面且切向药水束从第二表面掉落后的结构示意图; [n0029] 图4为相关技术中的蚀刻药水蚀刻待加工物料的第一表面以及第二表面的剖视图; [n0030] 图5为本申请一种实施例中的蚀刻装置的正视图; [n0031] 图6为本申请一种实施例中的蚀刻装置的俯视图; [n0032] 图7为本申请一种实施例中的蚀刻装置的侧视图; [n0033] 图8为本申请另一种实施例中的蚀刻装置的侧视图; [n0034] 图9为本申请又一种实施例中的蚀刻装置的侧视图; [n0035] 图10为本申请再一种实施例中的蚀刻装置的侧视图; [n0036] 图11为本申请一种实施例中的蚀刻装置的喷淋管的结构示意图; [n0037] 图12为本申请蚀刻液体喷淋在待加工物料的待蚀刻表面且切向药水束沿待蚀刻表面滑落后的结构示意图; [n0038] 图13为本申请蚀刻液体蚀刻待加工物料的待蚀刻表面的剖视图。 [n0039] 附图标记:10、待加工物料;11、第一表面;12、第二表面;20、喷淋装置;30、漩涡群;31、法向药水束;32、切向药水束;40、干膜。 [n0040] 100、待加工物料;110、待蚀刻表面;120、漩涡群;121、法向药水束;122、切向药水束;130、干膜;200、承载机构;220、驱动元件;221、电机;230、传动元件;231a、主动锥齿轮;232a、从动锥齿轮;233a、第一连杆;234a、第二连杆;231b、齿轮;232b、链条;233b、连杆;240、缓冲紧固件;241、缓冲块;242、固定组;300、喷淋机构;310、喷淋架;320、喷淋管;321、第一喷淋管;3211、第一主管;3212、第一支管;3213、第一喷头;322、第二喷淋管;3221、第二主管;3222、第二支管;3223、第二喷头。 [n0041] 为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。 [n0042] 请参照图1-图4所示,图1为相关技术中的喷淋装置蚀刻待加工物料的俯视图,图2为相关技术中蚀刻药水喷淋在待加工物料的第一表面且切向药水束沉积在第一表面上的结构示意图,图3为相关技术中蚀刻药水喷淋在待加工物料的第二表面且切向药水束从第二表面掉落后的结构示意图,图4为相关技术中的蚀刻药水蚀刻待加工物料的第一表面以及第二表面的剖视图。 [n0043] 相关技术中,待加工物料10的蚀刻加工工艺中最难的就是对蚀刻药水的控制能力,其中,待加工物料10可以但不仅限于引线框架、VCM弹片或导电薄膜等。 [n0044] 请参照图1所示,行业中,传统的蚀刻加工工艺都是采用水平传送待加工物料10,上下喷淋蚀刻药水的蚀刻装置,也就是说,待加工物料10沿水平方向放置,喷淋装置20沿竖直方向放置以使得蚀刻药水沿竖直方向喷洒,其中,水平方向即为与地面平行的方向,竖直方向即为与地面垂直的方向。 [n0045] 请参照图2和图3所示,蚀刻药水喷淋到待加工物料10的待蚀刻表面,由于存在液体冲击力,蚀刻药水会在待蚀刻表面形成法向药水束31和切向药水束32,其中,法向药水束31可理解成形成的与待蚀刻表面垂直的部分蚀刻药水,切向药水束32对应的理解成形成的与待蚀刻表面平行的部分蚀刻药水,法向药水与切向药水会在待蚀刻表面形成药水漩涡群30。 [n0046] 蚀刻时,喷淋在待加工物料10的第一表面11和第二表面12(可理解成待加工物料10的与水平方向平行的两相对设置的待蚀刻表面)上的法向药水束31对待加工物料10的第一表面11和第二表面12进行正常蚀刻。 [n0047] 请参照图2所示,蚀刻时,喷淋在待加工物料10的第一表面11上的切向药水束32由于自身重力以及受到待加工物料10的第一表面11支撑,切向药水束32不能直接离开待加工物料10的第一表面11,最终会一直沉积在待加工物料10的第一表面11上,且部分切向药水束32会沿着切向速度方向甩落到待加工物料10的侧面进行蚀刻,导致已曝光干膜40的阻挡作用降低,待加工物料10的半蚀刻(指产品表面具有腐蚀凹下去的一级面)区域过度蚀刻。 [n0048] 请参照图3所示,蚀刻时,喷淋在待加工物料10的第二表面12上的切向药水束32由于自身重力且无任何支撑,切向药水束32会直接掉落到药水缸体中,导致已曝光干膜40的阻挡作用高,待加工物料10的半蚀刻区域无过度蚀刻。 [n0049] 请参照图4所示,因此,喷淋在待加工物料10的第一表面11上的切向药水束32由于不确定性导致蚀刻时形成药水旋涡群30的区域尺寸均匀性不好,难以控制,且尺寸过度蚀刻严重,而待加工物料10的第二表面12蚀刻尺寸均匀,且无过度蚀刻,故从而导致经蚀刻后的待加工物料10的第一表面11与第二表面12的均匀性不一致,降低产品的良率。 [n0050] 为了解决上述技术问题,请参照图5-图13所示,本申请的第一方面提出了一种蚀刻装置,其能够有效地控制好对蚀刻药水的控制能力以提升待加工物料的生产良率。 [n0051] 请参照图5-图11所示,蚀刻装置包括承载机构200以及喷淋机构300,承载机构200用于承载待蚀刻的待加工物料100,并使得待加工物料100的待蚀刻表面110与水平方向具有预设角度,喷淋机构300用于对应待加工物料100的待蚀刻表面110设置并朝向待蚀刻表面110喷淋蚀刻液体,以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面110流动。 [n0052] 基于本实施例的蚀刻装置,待蚀刻的待加工物料100放置于承载机构200上以后,待加工物料100的待蚀刻表面110与水平方向之间呈夹角设置,也即呈预设角度设置,当喷淋机构300朝向待加工物料100的对应的待蚀刻表面110喷淋蚀刻液体时,因为预设角度的存在,使得粘附于待蚀刻表面110上的蚀刻液体可由自身重力的影响沿待蚀刻表面110流动,有效的避免了蚀刻液体在待加工物料100的待蚀刻表面110上的沉积,降低了蚀刻液体的控制难度,从而可达到提升产品良率的效果。 [n0053] 需要注意的是,本申请中的蚀刻装置不仅限于适用待加工物料100的蚀刻,凡是涉及到蚀刻制程的均可使用本申请所示出的蚀刻装置。 [n0054] 其中,请参照图5-图7所示,图5为本申请一种实施例中的蚀刻装置的正视图,图6为本申请一种实施例中的蚀刻装置的俯视图,图7为本申请一种实施例中的蚀刻装置的侧视图。 [n0055] 承载机构200作为蚀刻装置中的用于承载待蚀刻的待加工物料100的部件,承载机构200应该具有用于承载待蚀刻待加工物料100的区域,例如该区域可以为承载机构200的某一承载面,也可以为承载机构200的某一承载部,还可以为承载机构200的某一承载结构件。 [n0056] 待蚀刻的待加工物料100放置于承载机构200上以后,承载机构200使得引线框的待蚀刻表面110与水平方向具有预设角度,其中水平方向为平行于地面的方向,也即待加工物料100的待蚀刻表面110与水平面之间呈夹角设置,且待加工物料100的待蚀刻表面110与水平面之间所夹设的角度即为上述预设角度(如图7中所示的∠α)。 [n0057] 喷淋机构300作为蚀刻装置中的用于运输并喷洒蚀刻液体的部件,喷淋机构300应该具有可供蚀刻液体流经的路径,例如该路径可以是喷淋机构300的某一流通管道。 [n0058] 喷淋机构300用于对应待加工物料100的待蚀刻表面110设置并朝向待蚀刻表面110喷淋蚀刻液体,以使得蚀刻液体受重力影响而沿待蚀刻表面110流动。例如喷淋机构300可以同承载机构200沿竖直方向并列排布且可以位于承载机构200的一侧或两侧,喷淋机构300也可以同承载机构200沿水平方向并列排布且位于承载机构200的一侧或两侧,当然不管喷淋机构300相对于承载机构200如何布置,只要从喷淋机构300喷出的蚀刻液体能够顺利地被喷射到待加工物料100的待蚀刻表面110上即可。需要注意的是,这里待加工物料100的待蚀刻表面110可以是待加工物料100中的某一个表面,也可以是待加工物料100中的某两个表面,且该两表面可以为相对设置的表面。 [n0059] 待蚀刻液体喷淋于待加工物料100的待蚀刻表面110上以后,一部分蚀刻液体对待蚀刻表面110上的未被干膜130遮挡的部分进行正常蚀刻,另一部分蚀刻液体由于自身重力影响而沿待加工物料100的待蚀刻表面110滑落至蚀刻装置的蚀刻液缸体中。蚀刻液体由于液体冲击力,从受力的角度去分析,蚀刻液体沿竖直方向上的重力可以分解成垂直且指向待蚀刻表面110的第一分力、平行待蚀刻表面110的第二分力(第二分力的方向与蚀刻液体的流动方向相同),第一分力与待蚀刻表面110对蚀刻液体的支撑力的大小相等且方向相反可相互抵消,使得在沿垂直于待蚀刻表面110方向上的合力为零,第二分力与待蚀刻表面110对蚀刻液体的摩擦力的方向相反,且第二分力的大小大于待蚀刻表面110对蚀刻液体的摩擦力的大小,第二分力与待蚀刻表面110对蚀刻液体的摩擦力可部分抵消,使得在沿平行于待蚀刻表面110的方向上的合力不为零,故使得蚀刻液体可沿待加工物料100的待蚀刻表面110流动。 [n0060] 进一步地,考虑到待加工物料100的待蚀刻表面110与水平面之间的夹角越大,则蚀刻液体沿待蚀刻表面110的流动速度可能越快,在一些实施例中,预设角度为α,且α的取值范围满足条件式:85度≤α≤95度,换言之,待加工物料100的待蚀刻表面110与水平方向之间的预设角度控制在85度≤α≤95度的范围内,待蚀刻表面110与竖直方向的角度则在基于竖直方向的正负5度的范围内,例如α的取值可以为85度、90度或95度等。该设计中,将预设角度控制在85度≤α≤95度的范围内,一方面能够使得粘附于待蚀刻表面110上的蚀刻液体在重力作用下更容易沿待蚀刻表面110流动,从而进一步降低蚀刻液体的控制难度,另一方面在结构上更便于承载机构200对待加工物料100的支撑与固定。 [n0061] 具体地,在本实施例中,预设角度α为90度,也即待加工物料100待蚀刻表面110沿竖直方向设置(当待加工物料100为矩形板状结构时,也即待加工物料100立式放置于承载机构200上)。基于此,蚀刻液体喷淋到待加工物料100的待蚀刻表面110上以后,蚀刻液体由于受到重力影响而言待蚀刻表面110流动,并且此时蚀刻液体沿竖直方向上的重力不用进行分解,其用于克服待蚀刻表面110对蚀刻液体的摩擦力而沿待蚀刻表面110流动。该设计中,进一步降低了蚀刻液体的控制难度,从而可达到提升产品良率的效果。 [n0062] 进一步地,请参照图7-图8所示,图8为本申请另一种实施例中的蚀刻装置的侧视图。 [n0063] 考虑到待加工物料100在蚀刻的过程中,待加工物料100与喷淋机构300之间可以呈相对静止状态,例如可以是待加工物料100静止不动同时喷淋机构300也静止不动,从而形成两者之间的相对静止状态,也可以是待加工物料100运动同时喷淋机构300也运动,但是运动的待加工物料100相对于运动的喷淋机构300静止以形成两者之间的相对静止状态。需要注意的是,由于待加工物料100是承放在承载机构200上的,待加工物料100相对于承载机构200静止,故待加工物料100运动即为承载机构200运动。在一些实施例中,承载机构200以及喷淋机构300中的一个可相对于另一个产生运动,以朝向待蚀刻表面110喷淋蚀刻液体。例如可以是承载机构200运动且喷淋机构300静止不动,从而形成两者之间的相对运动状态,也可以是承载机构200静止不动且喷淋机构300运动,从而形成两者之间的相对运动状态。该设计中,承载机构200以及喷淋机构300中的一个可运动,一方面使得蚀刻液能够尽可能多的覆盖待加工物料100的待蚀刻表面110,以达到良好的蚀刻效果,另一方面对于大批量的待蚀刻待加工物料100而言,边蚀刻边运动,还能够达到提升待加工物料100的生产效率的效果。 [n0064] 进一步地,考虑到能够实现两个部件之间的产生相对运动的方式有多种,例如其中一个部件可在气缸的推动作用下相对于另一个部件运动,或者其中一个部件可在电机作用下相对于另一个部件运动,在一些实施例中,承载机构200包括传送带(图中未示出),传动元件230以及驱动元件220,驱动元件220与传动元件230连接,驱动元件220配置成可驱动传动元件230牵引传送带运动,从而使得待加工物料100跟随传送带沿传输方向运动。该设计中,驱动元件220驱动传动元件230运动,传动元件230牵引与之连接的传送带运动,使得放置在传送带上的待加工物料100随传送带一起运动,从而实现了待加工物料100与喷淋机构300之间的相对运动,提升待加工物料100的蚀刻效果的同时还提升了待加工物料100的生产效率。 [n0065] 具体地,请同时参照图5至图7,在一些实施例中,驱动元件220为电机221,传动元件230可以包括多个主动锥齿轮231a、多个从动锥齿轮232a、多个第一连杆233a以及多个第二连杆234a,其中,电机221的主轴与其中一个主动锥齿轮231a同轴固定连接,以驱动该主动锥齿轮231a转动,第一连杆233a用于与多个第一主动锥齿轮231a同轴固定连接,以使得多个主动锥齿轮231a在第一连杆233a的作用下同步转动,各主动锥齿轮231a均啮合连接有一个从动锥齿轮232a,以使得从动锥齿轮232a在主动锥齿轮231a的作用下转动,各第二连杆234a的两端分别用于与从动锥齿轮232a同轴固定连接,以使得多个第二连杆234a在从动锥齿轮232a的作用下同步转动,传送带包覆于第二连杆234a外,以使得传送带在第二连杆234a的作用下沿传输方向运动。 [n0066] 请参照图8所示,在一些实施例中,驱动元件220为电机221,传动元件230可以包括多个齿轮231b、多个链条232b以及多个连杆233b,其中,电机221的主轴与其中一个齿轮231b同轴固定连接,以驱动该齿轮231b转动,链条232b与多个齿轮231b啮合连接,以使得多个齿轮231b在链条232b的作用下同步转动,各连杆233b的两端分别用于与齿轮231b同轴固定连接,以使得多个连杆233b在齿轮231b的作用下同步转动,传送带包覆于连杆233b外,以使得传送带在连杆233b的作用下沿传输方向运动。 [n0067] 在一些实施例中,驱动元件220为电机221,传动元件230可以包括主动轮与从动轮,其中,传送带绕设于主动轮以及从动轮的外圈,电机221的主轴与主动轮同轴固定连接,电机221驱动主动轮转动,主动轮转动可带动传动带沿传输方向运动,传送带运动可带动从动轮转动。 [n0068] 进一步地,请继续参照图5-图7所示,考虑到待加工物料100在跟随传送带一起沿传输方向运动的过程中,可能会因外界因素(例如传送带抖动等)而使得待加工物料100与传送带之间的相对位置发生改变,即待加工物料100偏移,造成不便于控制蚀刻液体来适应发生不同位置改变的待加工物料100,最终影响待加工物料100的生产良率,在一些实施例中,承载机构200还包括邻近传动带设置,且用于限制待加工物料100在传输过程中相对于传动带产生偏移的缓冲紧固件240。其中,缓冲紧固件240邻近传动带设置可以理解成缓冲紧固件240是设置在传送带的侧边平台(图中未示出)上。该设计中,通过缓冲紧固件240的设置,缓冲紧固件240可用于固定放置在传送带上的待加工物料100,以避免待加工物料100在传送的过程中相对于传送带发生位置的偏移,增强待加工物料100在传送过程中的稳定性,从而进一步降低了待加工物料100的蚀刻难度。 [n0069] 进一步地,考虑到用于限制部件之间产生相对偏移的方式有很多,例如可以采用夹持机构来固定。在一些实施例中,缓冲紧固件240包括多个缓冲块241,多个缓冲块241两两为一组可形成多个固定组242,待加工物料100可夹设于同一固定组242中的两个缓冲块241之间。该设计中,通过将待加工物料100夹设在两个缓冲块241之间,能够起到限制待加工物料100在传输过程中的偏移,结构简单,操作方便。 [n0070] 可以理解的是,固定组242可以设置在传送带的侧边平台的任意位置上,例如,固定组242可以设置于侧边平台的靠近传送带的中间位置处,在一些实施例中,多个固定组242设置于承载机构200的进料端以及出料端。该设计中,多个固定组242设置在承载机构200的进料端以及出料端,使得多个固定组242从待加工物料100的两端对待加工物料100进行固定,进一步增强了待加工物料100放置在传送带上的稳定性。 [n0071] 可以理解的是,缓冲块241与待加工物料100的待蚀刻表面110直接接触,为避免待加工物料100沿传输方向运动的过程中缓冲块241刮伤待加工物料100的待蚀刻表面110,在一些实施例中,缓冲块241的材质为弹性橡胶或弹性树脂等。 [n0072] 进一步地,请参照图7、图9和图10所示,图9为本申请又一种实施例中的蚀刻装置的侧视图,图10为本申请再一种实施例中的蚀刻装置的侧视图。 [n0073] 考虑到除了可以从待加工物料100相对于承载机构200的放置方式、待加工物料100与承载机构200中的各部件的连接关系等方面来降低蚀刻液体的控制难度外,还可以从用于传输和喷洒蚀刻液体的喷淋机构300上进行相关的改进,以达到降低蚀刻液体的控制难度的目的。在一些实施例中,喷淋机构300包括喷淋管320以及喷淋架310,喷淋管320用于输送蚀刻液体,喷淋架310用于支撑喷淋管320且设置于承载机构200的至少一侧。该设计中,喷淋管320用于输送蚀刻液体,喷淋架310设置于承载机构200的至少一侧以从待加工物料100的至少一侧蚀刻待蚀刻表面110。 [n0074] 例如喷淋架310可以同传送带沿水平方向并列布置于传送带的一侧或两侧,喷淋架310也可以同传送带沿竖直方向并列布置于传送带的一侧或两侧。且喷淋架310的实际布置位置可根据待加工物料100实际的待蚀刻表面110的数量决定,例如喷淋架310布置于传送带的一侧可能意味着该蚀刻装置可能只能蚀刻待加工物料100的其中一个待蚀刻表面110,喷淋架310布置于传送带的两侧可能意味着该蚀刻装置可能可以蚀刻待加工物料100的两相对设置的待蚀刻表面110。需要注意的是,这里对喷淋架310的具体结构不做限定,其可以为与喷淋管320相适配的架体结构。 [n0075] 具体地,在本实施例中,喷淋架310同传送带沿水平方向布置于传送带的两侧,且喷淋架310沿传送带的传输方向布置,也就是说,喷淋架310面向立式的待加工物料100的待蚀刻表面110布置。该设计中,喷淋机构300可以从待加工物料100的两侧同时对待加工物料100的两相对设置的待蚀刻表面110进行喷淋蚀刻,提升了待加工物料100的蚀刻效率,并增强该蚀刻装置的适用性。 [n0076] 喷淋管320包括第一喷淋管321以及第二喷淋管322中的至少一种。例如,如图7所示,在一些实施例中,喷淋管320可以既包括第一喷淋管321又包括第二喷淋管322;如图9所示,在其他一些实施例中,喷淋管320可以仅包括第一喷淋管321;如图10所示,在其他一些实施例中,喷淋管320可以仅包括第二喷淋管322。 [n0077] 请参照图11所示,图11为本申请一种实施例中的蚀刻装置的喷淋管的结构示意图。在一些实施例中,第一喷淋管321包括第一主管3211、与第一主管3211垂直连通的第一支管3212、以及设置于第一支管3212的背离第一主管3211的一端的第一喷头3213,第二喷淋管322包括第二主管3221、与第二主管3221垂直连通的第二支管3222、以及设置于第二支管3222的背离第二主管3221的一端的第二喷头3223,在沿第一支管3212或第二支管3222的长度方向上,第一支管3212的长度尺寸大于第二支管3222的长度尺寸。该设计中,蚀刻液体在第一喷淋管321内依次流经第一主管3211、第一支管3212并从第一喷头3213喷出射至待加工物料100的待蚀刻表面110以对待加工物料100进行蚀刻操作,同理蚀刻液体在第二喷淋管322内依次经过第二主管3221、第二支管3222并从第二喷头3223喷出射至待加工物料100的待蚀刻表面110以对待加工物料100进行蚀刻操作。 [n0078] 具体地,第一主管3211以及第二主管3221沿传送带的传输方向设置,且第一主管3211以及第二主管3221的两端与喷淋架310固定连接,这里对第一主管3211以及第二主管3221与喷淋架310之间的连接结构不做限定,例如喷淋架310上可以具有与第一主管3211或第二主管3221的端部相适配的卡槽,也即第一主管3211以及第二主管3221与喷淋架310之间可通过卡合连接的方式来实现两者之间的固定连接,当然第一主管3211以及第二主管3221与喷淋架310之间还可以通过某种连接结构件来实现两者之间的固定连接,这里对连接结构件不做赘述。 [n0079] 考虑到为使蚀刻液体能够尽可能多的覆盖待加工物料100的待蚀刻表面110,以提升待加工物料100的蚀刻效果,在一些实施例中,第一喷淋管321的数量为多个,第二喷淋管322的数量亦为多个,且在沿竖直方向上,多个第一喷淋管321与多个第二喷淋管322呈交替间隔设置,且当多个第一喷淋管321以及多个第二喷淋管322装设于喷淋架310后,第一喷头3213的喷嘴与第二喷头3223的喷嘴位于同一平面内。例如,在沿竖直方向上,从上到下按照第一喷淋管321、第二喷淋管322、第一喷淋管321、第二喷淋管322的排列顺序依次循环排布,其中,第一喷头3213的喷嘴应该理解成第一喷头3213的出水点(例如出水口),同理第二喷头3223的喷嘴应该理解成第二喷头3223的出水点。该设计中,通过将多个第一喷淋管321以及多个第二喷淋管322在沿竖直方向呈交错间隔设置,且第一喷头3213的喷嘴与第二喷头3223的喷嘴位于同一平面内,使得多个第一喷淋管321与喷淋架310之间的支撑点同多个第二喷淋管322与喷淋架310之间的支撑点错开,从而使得喷淋架310的受力均匀,对喷淋架310起到良好的保护作用,延长了喷淋架310的使用寿命。 [n0080] 进一步地,请继续参照图11所示,在一些实施例中,第一支管3212的数量为多个,第一喷头3213的数量亦为多个,且一个第一喷头3213对应设置于一个第一支管3212,第二支管3222的数量为多个,第二喷头3223的数量亦为多个,且一个第二喷头3223对应设置于一个第二支管3222,其中,在沿第一主管3211或第二主管3221的长度方向上,多个第一支管3212与多个第二支管3222呈交替间隔设置。也就是说,同一第一喷淋管321上的多个第一支管3212在沿第一主管3211的长度方向上均匀等间隔排布,同一第二喷淋管322上的多个第二支管3222在沿第二主管3221的长度方向上均匀等间隔排布,且第一喷淋管321以及第二喷淋管322装设于喷淋架310上以后,从上往下看(也即俯视图视角),相邻两个第一支管3212之间会有一个第二支管3222。该设计中,通过将第一支管3212与第二支管3222的间隔排布,一方面使得蚀刻液体能够进一步尽可能多的覆盖待加工物料100的待蚀刻表面110,从而达到进一步优化待加工物料100的蚀刻效果的目的,另一方面也更利于对蚀刻液体的控制以降低蚀刻液体的控制难度。 [n0081] 请参照图12-图13所示,图12为本申请蚀刻液体喷淋在待加工物料的待蚀刻表面且切向药水束沿待蚀刻表面滑落后的结构示意图,图13为本申请蚀刻液体蚀刻待加工物料的待蚀刻表面的剖视图。 [n0082] 以下结合上述蚀刻装置对待加工物料100蚀刻待蚀刻表面110的原理进行相关介绍。 [n0083] 待蚀刻液体喷淋于待加工物料100的待蚀刻表面110上以后,蚀刻液体由于液体冲击力,在待加工物料100的待蚀刻表面110的作用下分成垂直于待蚀刻表面110的法向药水束121以及平行于待蚀刻表面110的切向药水束122,其中,法向药水束121可对待加工物料100中的未被干膜130遮挡的部分进行正常蚀刻,切向药水束122粘附于待蚀刻表面110后由于受到重力影响而沿待蚀刻表面110流动。结合力学角度分析,切向药水束122的沿竖直方向上的重力可以分解成垂直且指向待蚀刻表面110的第一分力、平行待蚀刻表面110的第二分力(第二分力的方向与切向药水束122的流动方向相同),第一分力与待蚀刻表面110对切向药水束122的支撑力的大小相等且方向相反可相互抵消,使得在沿垂直于待蚀刻表面110方向上的合力为零,第二分力与待蚀刻表面110对切向药水束122的摩擦力的方向相反,且第二分力的大小大于待蚀刻表面110对切向药水束122的摩擦力的大小,第二分力与待蚀刻表面110对切向药水束122的摩擦力可部分抵消,使得在沿平行于待蚀刻表面110的方向上的合力不为零,故使得切向药水束122可沿待加工物料100的待蚀刻表面110流动。 [n0084] 特别的,针对当待加工物料100的待蚀刻表面110与水平方向之间的预设角度α为90度的情况,蚀刻液体喷淋到待加工物料100的待蚀刻表面110上以后,可分成垂直于待蚀刻表面110的法向药水束121以及平行于待蚀刻表面110的切向药水束122,其中,切向药水束122由于受到重力影响而言待蚀刻表面110流动,并且此时切向药水束122沿竖直方向上的的重力不用进行分解,其用于克服待蚀刻表面110对切向药水束122的摩擦力而沿待蚀刻表面110流动。 [n0085] 本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件;在本申请的描述中,需要理解的是,若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明,不能理解为对本专利的限制,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。 [n0086] 以上所述仅为本申请的较佳实施例而已,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
权利要求:
Claims (10) [0001] 1.一种蚀刻装置,其特征在于,包括: 承载机构,用于承载待蚀刻的待加工物料,并使得所述待加工物料的待蚀刻表面与水平方向具有预设角度;及 喷淋机构,用于对应所述待加工物料的待蚀刻表面设置并朝向所述待蚀刻表面喷淋蚀刻液体,以使得所述蚀刻液体受重力影响而沿所述待蚀刻表面流动。 [0002] 2.如权利要求1所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述预设角度为α,且α的取值范围满足条件式:85度≤α≤95度。 [0003] 3.如权利要求1所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述承载机构以及所述喷淋机构中的一个可相对于另一个产生运动,以朝向所述待蚀刻表面喷淋所述蚀刻液体。 [0004] 4.如权利要求3所述的一种蚀刻装置,其特征在于,所述承载机构包括: 传送带; 传动元件;及 驱动元件,与所述传动元件连接,所述驱动元件配置成可驱动所述传动元件牵引所述传送带运动,从而使得所述待加工物料跟随所述传送带沿传输方向运动。 [0005] 5.如权利要求4所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述承载机构还包括邻近所述传送带设置,且用于限制所述待加工物料在传输过程中相对于所述传送带产生偏移的缓冲紧固件。 [0006] 6.如权利要求5所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述缓冲紧固件包括多个缓冲块,所述多个缓冲块两两为一组可形成多个固定组,所述待加工物料可夹设于同一所述固定组中的两所述缓冲块之间; 所述多个固定组设置于所述承载机构的进料端以及出料端。 [0007] 7.如权利要求1所述的一种蚀刻装置,其特征在于,所述喷淋机构包括: 喷淋管,用于输送所述蚀刻液体; 喷淋架,用于支撑所述喷淋管且设置于所述承载机构的至少一侧。 [0008] 8.如权利要求7所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述喷淋管包括第一喷淋管以及第二喷淋管中的至少一种; 所述第一喷淋管包括第一主管、与所述第一主管垂直连通的第一支管、以及设置于所述第一支管的背离所述第一主管一端的第一喷头; 所述第二喷淋管包括第二主管、与所述第二主管垂直连通的第二支管、以及设置于所述第二支管的背离所述第二主管一端的第二喷头; 其中,在沿所述第一支管或第所述二支管的长度方向上,所述第一支管的长度尺寸大于所述第二支管的长度尺寸。 [0009] 9.如权利要求8所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述第一喷淋管的数量为多个,所述第二喷淋管的数量亦多个,且在沿竖直方向上,所述多个第一喷淋管与所述多个第二喷淋管呈交替间隔设置,且当所述多个第一喷淋管以及所述多个第二喷淋管装设于所述喷淋架后,所述第一喷头的喷嘴与所述第二喷头的喷嘴位于同一平面内。 [0010] 10.如权利要求8或9所述的一种蚀刻装置,其特征在于, 所述第一支管的数量为多个,所述第一喷头的数量亦为多个,且一个所述第一喷头对应设置于一个所述第一支管; 所述第二支管的数量为多个,所述第二喷头的数量亦为多个,且一个所述第二喷头对应设置于一个所述第二支管; 其中,在沿所述第一主管或所述第二主管的长度方向上,所述多个第一支管与所述多个第二支管呈交替间隔设置。
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2021-10-01| GR01| Patent grant| 2021-10-01| GR01| Patent grant|
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申请号 | 申请日 | 专利标题 CN202120248488.5U|CN214336696U|2021-01-28|2021-01-28|一种蚀刻装置|CN202120248488.5U| CN214336696U|2021-01-28|2021-01-28|一种蚀刻装置| 相关专利
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